石墨坩堝真空環(huán)境下的損耗問題解析

石墨制品石墨坩堝真空環(huán)境下的損耗問題解析
一、石墨制品石墨坩堝在真空環(huán)境下的損耗情況

  石墨制品石墨坩堝在高溫試驗中運用廣泛，首要用于對高溫資料的燒結和熔融等試驗。一般來說，在常壓條件下運用石墨坩堝，由于氣體對試驗發(fā)生的影響較小。但在高溫試驗中，石墨坩堝很容易發(fā)生氧化反響，對試驗發(fā)生煩擾，因此需要在真空環(huán)境中運用。

然而，在真空環(huán)境下，石墨制品石墨坩堝仍然存在必定的損耗問題。具體表現(xiàn)為石墨坩堝表面出現(xiàn)必定的燒蝕和氧化，甚至出現(xiàn)開裂、變形等現(xiàn)象，這些都會影響試驗的準確性和重復性。

二、石墨制品石墨坩堝應對方法

    1.選擇合適的石墨資料。一般來說，石墨制品石墨坩堝首要有天然石墨和人工炭素石墨兩種，而人工炭素石墨較天然石墨更合適高溫試驗。由于人工炭素石墨中金屬雜質少，氧化反響程度較低，對試驗影響較小。

    2.正確處理石墨坩堝。在試驗之前，應該對石墨制品石墨坩堝進行必定的處理，如用氫氣、氬氣或氮氣等氣體流通進行預處理，以削減氧化反響；在試驗之后，應及時將石墨坩堝進行清洗和烘干。

    3.控制真空度。在運用石墨制品石墨坩堝的過程中，應該對真空度進行嚴格控制，以防止氧化反響加重。一般來說，真空度應當?shù)诌_10^-3Pa以下。

    4.防止溫度改動過大。溫度改動過大容易導致石墨制品石墨坩堝熱脹冷縮，構成開裂、變形等問題。

    5.石墨制品石墨坩堝做好符號。在試驗之前，應該對石墨坩堝進行符號，以防止不同試劑稠濁或損耗問題。

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